ورود به حساب

نام کاربری گذرواژه

گذرواژه را فراموش کردید؟ کلیک کنید

حساب کاربری ندارید؟ ساخت حساب

ساخت حساب کاربری

نام نام کاربری ایمیل شماره موبایل گذرواژه

برای ارتباط با ما می توانید از طریق شماره موبایل زیر از طریق تماس و پیامک با ما در ارتباط باشید


09117307688
09117179751

در صورت عدم پاسخ گویی از طریق پیامک با پشتیبان در ارتباط باشید

دسترسی نامحدود

برای کاربرانی که ثبت نام کرده اند

ضمانت بازگشت وجه

درصورت عدم همخوانی توضیحات با کتاب

پشتیبانی

از ساعت 7 صبح تا 10 شب

دانلود کتاب Simulation of Semiconductor Processes and Devices 2001: SISPAD 01

دانلود کتاب شبیه سازی فرآیندها و دستگاه های نیمه هادی 2001: SISPAD 01

Simulation of Semiconductor Processes and Devices 2001: SISPAD 01

مشخصات کتاب

Simulation of Semiconductor Processes and Devices 2001: SISPAD 01

ویرایش: 1 
نویسندگان: , , ,   
سری:  
ISBN (شابک) : 9783709172780, 9783709162446 
ناشر: Springer-Verlag Wien 
سال نشر: 2001 
تعداد صفحات: 462 
زبان: English 
فرمت فایل : PDF (درصورت درخواست کاربر به PDF، EPUB یا AZW3 تبدیل می شود) 
حجم فایل: 35 مگابایت 

قیمت کتاب (تومان) : 52,000



کلمات کلیدی مربوط به کتاب شبیه سازی فرآیندها و دستگاه های نیمه هادی 2001: SISPAD 01: الکترونیک و میکروالکترونیک، ابزار دقیق، مواد نوری و الکترونیک، نانوتکنولوژی



ثبت امتیاز به این کتاب

میانگین امتیاز به این کتاب :
       تعداد امتیاز دهندگان : 11


در صورت تبدیل فایل کتاب Simulation of Semiconductor Processes and Devices 2001: SISPAD 01 به فرمت های PDF، EPUB، AZW3، MOBI و یا DJVU می توانید به پشتیبان اطلاع دهید تا فایل مورد نظر را تبدیل نمایند.

توجه داشته باشید کتاب شبیه سازی فرآیندها و دستگاه های نیمه هادی 2001: SISPAD 01 نسخه زبان اصلی می باشد و کتاب ترجمه شده به فارسی نمی باشد. وبسایت اینترنشنال لایبرری ارائه دهنده کتاب های زبان اصلی می باشد و هیچ گونه کتاب ترجمه شده یا نوشته شده به فارسی را ارائه نمی دهد.


توضیحاتی در مورد کتاب شبیه سازی فرآیندها و دستگاه های نیمه هادی 2001: SISPAD 01



این جلد شامل مجموعه مقالات کنفرانس بین المللی شبیه سازی دستگاه ها و فرآیندهای نیمه هادی، SISPAD 01 است که در 5 تا 7 سپتامبر 2001 در آتن برگزار شد. این کنفرانس یک انجمن آزاد برای ارائه آخرین نتایج و روندها در شبیه سازی فرآیند و دستگاه فراهم کرد. گرایش به کوچک شدن ابعاد دستگاه و افزایش پیچیدگی در فناوری فرآیند مستلزم توسعه مداوم مدل‌های پیشرفته برای توصیف پدیده‌های فیزیکی اساسی است. ابزارهای شبیه‌سازی جدید برای تکمیل سلسله مراتب در زنجیره شبیه‌سازی طراحی به کمک رایانه بین رویکردهای میکروسکوپی و ماکروسکوپی توسعه یافته‌اند. برنامه کنفرانس شامل 8 مقاله دعوت شده، 60 مقاله برای ارائه شفاهی و 34 مقاله برای ارائه پوستر بود که از مجموع 165 چکیده از 30 کشور در سراسر جهان انتخاب شده بودند. این مقالات مفاهیم جدید و جالبی را برای شبیه سازی فرآیندها و دستگاه ها نشان می دهد.


توضیحاتی درمورد کتاب به خارجی

This volume contains the Proceedings of the International Conference on Simulation of Semiconductor Devices and Processes, SISPAD 01, held on September 5–7, 2001, in Athens. The conference provided an open forum for the presentation of the latest results and trends in process and device simulation. The trend towards shrinking device dimensions and increasing complexity in process technology demands the continuous development of advanced models describing basic physical phenomena involved. New simulation tools are developed to complete the hierarchy in the Technology Computer Aided Design simulation chain between microscopic and macroscopic approaches. The conference program featured 8 invited papers, 60 papers for oral presentation and 34 papers for poster presentation, selected from a total of 165 abstracts from 30 countries around the world. These papers disclose new and interesting concepts for simulating processes and devices.



فهرست مطالب

Front Matter....Pages i-xv
Macroscopic Quantum Carrier Transport Modeling....Pages 1-9
Atomistic Front-End Process Modelling: A Powerful Tool for Deep-Submicron Device Fabrication....Pages 10-17
Monte Carlo Impurity Diffusion Simulation Considering Charged Species....Pages 18-21
A Novel Model for Boron Diffusion in SiGe Strained Layers Based on a Kinetics Driven Ge-B Pairing Mechanism....Pages 22-25
The Role of Incomplete Interstitial-Vacancy Recombination on Silicon Amorphization....Pages 26-29
Atomistic simulations of extrinsic defects evolution and transient enhanced diffusion in silicon....Pages 30-33
Initial Conditions for Transient Enhanced Diffusion: Beyond the Plus-Factor Approach....Pages 34-37
Local Iterative Monte Carlo investigation of the influence of electron-electron scattering on short channel Si-MOSFETs....Pages 38-41
Simplified Inelastic Acoustic—Phonon Hole Scattering Model for Silicon....Pages 42-45
An Impact Ionization Model Including Non-Maxwellian And Non-Parabolicity Effects....Pages 46-49
Density of States and Group Velocity Calculations for SiO 2 ....Pages 50-53
Investigation of Spurious Velocity Overshoot Using Monte Carlo Data....Pages 54-57
Elasto-Plastic Modeling of Microelectronics Materials for Accurate Prediction of the Mechanical Stresses in Advanced Silicon Technologies....Pages 58-61
A Unified Model of Dopant Diffusion in SiGe.....Pages 62-65
A Simple Modeling and Simulation of Complete Suppression of Boron Out-Diffusion in Si 1-x Ge x by Carbon Insertion....Pages 66-69
On the Effect of Local Electronic Stopping on Ion Implantation Profiles in Non-Crystalline Targets....Pages 70-73
Dynamics of p+ polysilicon gate depletion due to the formation of boron compounds in TiSi 2 ....Pages 74-77
Analysis of Statistical Fluctuations due to Line Edge Roughness in sub-0.1μm MOSFETs....Pages 78-81
Quantum Corrections in 3-D Drift Diffusion Simulations of Decanano MOSFETs Using an Effective Potential....Pages 82-85
Finite Element Simulation of 2d Quantum Effects In Ultra Short Channel Mosfets With High-K Dielectric Gates....Pages 86-89
Decananometer Fdsoi Device Optimization Including Random Variation....Pages 90-93
Fully 2d Quantum-Mechanical Simulation of Nanoscale Mosfets....Pages 94-97
Ab-initio Electrodynamic Modeling of On-Chip Back-End Structures....Pages 98-107
Analysis of Hot-Carrier-Induced Oxide Degradation in MOSFETs by Means of Full-Band Monte Carlo Simulation....Pages 108-115
Acceleration of Lattice Monte Carlo Simulations and Application to Diffusion/Clustering of As at High Concentrations....Pages 116-119
Interstitial Cluster Evolution and Transient Phenomena in Si-crystal....Pages 120-123
Monitoring Arsenic In-Situ Doping with Advanced Models for Poly-Silicon CVD....Pages 124-127
Equipment and Process Simulation of Compound Semiconductor MOCVD in the Production Scale Multiwafer Planetary Reactor....Pages 128-131
Numerical Simulation of Non-Equilibrium, Ultra-Rapid Heating of Si-thin films by Nanosecond-Pulse Excimer Lasers....Pages 132-135
2d Hierarchical Radio-Frequency Noise Modeling Based on a Langevin-Type Drift-Diffusion Model and Full-Band Monte-Carlo Generated Local Noise Sources....Pages 136-139
Variance and Covariance Estimation in Stationary Monte Carlo Device Simulation....Pages 140-143
Analysis of Gate Tunneling Current in MOS Structures using Quantum Mechanical Simulation....Pages 144-147
Self-Consistent Solution of Schrödinger Equation, Boltzmann Transport Equation, Poisson and Current-continuity Equation for MOSFET....Pages 148-151
Boundary Condition Models for Terminal Current Fluctuations....Pages 152-155
Electron Velocity in Sub-50-Nm Channel Mosfets....Pages 156-161
3D Statistical Simulation of Intrinsic Fluctuations in Decanano MOSFETs Introduced by Discrete Dopants, Oxide Thickness Fluctuations and LER....Pages 162-169
Modeling of Reactive Ion Etching for Si/Si0 2 Systems....Pages 170-173
Simulation and Prediction of Aspect Ratio Dependent Phenomena during Si0 2 and Si Feature Etching in Fluorocarbon Plasmas....Pages 174-177
System Level Modeling of an Electrostatic Torsional Actuator....Pages 178-181
Impact of Substrate Resistance on Drain Current Noise in MOSFETs....Pages 182-185
An Efficient Frequency-Domain Analysis Technique of MOSFET Operation....Pages 186-189
Modeling of Bias Dependent Fluctuations of Flicker Noise of MOSFETs....Pages 190-193
Compact MOS Modelling for RF CMOS Circuit Simulation....Pages 194-201
Statistical Analysis of VLSI Using TCAD....Pages 202-209
Numerical Modeling of Impact-Ionization Effects on Gate-Lag Phenomena in Gaas Mesfets....Pages 210-213
Monte Carlo Simulation of Multi-band Carrier Transport in Semiconductor Materials with Complex Unit Cells....Pages 214-217
Modeling Semiconductor Carbon Nanotube Rectifying Heterojunctions....Pages 218-221
Simulation of Vertical CEO-FETs by a Coupled Solution of the Schrödinger Equation with a Hydrodynamic Transport Model....Pages 222-225
A Computational Efficient Method For Hbt Intermodulation Distortions And Two-Tone Characteristics Simulation....Pages 226-229
Modeling the Impact of Body-to-body Leakage in Partially-Depleted SOI CMOS Technology....Pages 230-233
Compact device model for partially depletedSOI-MOSFETs....Pages 234-237
Two-Dimensional Model for the Subthreshold Slope in Deep-Submicron Fully-Depleted SOI MOSFET’s....Pages 238-241
3D Thermal Analysis for SOI and its impact on Circuit Performance....Pages 242-245
Modelling of High-Voltage SOI-LDMOS Transistors including Self-Heating....Pages 246-249
An Efficient Tool for Extraction of Interconnect Models in Submicron Layouts....Pages 250-253
A Comparative Study Of Two Numerical Techniques For Inductance Calculation In Interconnect Structures....Pages 254-257
Comparison of finite element stress simulation with X-ray measurement for the aluminum conductors with different passivation topography....Pages 258-261
A New Compact Spice-like Model of E 2 PROM Memory Cells Suitable for DC and Transient Simulations....Pages 262-265
Simulation of Flash Memory Programming Characteristics....Pages 266-269
A Figure of Merit for Flash Memory Multi-Layer Tunnel Dielectrics....Pages 270-273
Enhanced Diffusion of Phosphorus due to BPSG layer in SEG-MOSFETs....Pages 274-277
Neutron-Ser Modeling & Simulation for 0.181,1,M Cmos Technology....Pages 278-283
Tcad Driven Process Design of 0.15μm Fully-Depleted Soi Transistor for Low Power Applications....Pages 284-287
A Simulation Evaluation of 100nm CMOS Device Performance....Pages 288-291
A Practical Approach to Modeling Strained Silicon NMOS Devices....Pages 292-295
Accounting for Quantum Effects and Polysilicon Depletion in an Analytical Design-Oriented MOSFET Model....Pages 296-299
Investigations of Salicided and Salicide-Blocked MOSFETs for ESD Including ESD Simulation....Pages 300-303
Bipolar Transistor’s Intrinsic and Extrinsic Capacitance Determination....Pages 304-307
Varying Characteristics of Bipolar Transistors with Emitter Contact Window Width....Pages 308-311
Ensemble Monte Carlo Particle Modeling of IngaAs/InP Uni-Traveling-Carrier Photodiodes....Pages 312-315
An Effective Methodology for Predicting the Distribution of MOSFET Device Characteristics Using Statistical TCAD Simulations....Pages 316-319
Quantum mechanical balance equations for modeling transport in closed electric circuits.....Pages 320-323
A Nonlinear Iterative Method for InAs/GaAs Semiconductor Quantum Dots Simulation....Pages 324-327
The modeling of a SOI microelectromechanical sensor....Pages 328-331
A Computationally Efficient Model for Three-dimensional Monte Carlo Simulation of Ion Implantation into Complex Structures....Pages 332-335
A Full-Wave Analysis for Multi-Level Interconnects Using FDTD-PML method....Pages 336-339
Differences Between Quantum-Mechanical Capacitance-Voltage Simulators....Pages 340-343
Investigation of a Novel Rapid Thermal Processing Concept Using an Electro-Optically Controlled Radiation Cavity....Pages 344-347
A Shared Architecture for a Dynamic TechnologySimulation Repository....Pages 348-351
Level Set Modeling of Profile Evolution During Deposition Process....Pages 352-355
Parameter and Coupling Ratio Extraction for SPICE-Compatible MACRO Modeling of Source Side Injection (SSI) Flash Cell....Pages 356-359
Theoretical Calculation of a Charged Particle Detector’s Response Fabricated by Semi Insulating (SI) GaAs....Pages 360-363
Stress Modelling of Multi Level Interconnect Schemes For Future Deep Submicron Device Generations....Pages 364-367
Robust Method for Fast and Accurate Simulation of Random Dopant Fluctuation-Induced Vth Variation in MOSFETs with Arbitrary Complex Doping Distribution....Pages 368-371
An Agent-based Common Software Platform Applied to Multi-scale Device and Process Simulations....Pages 372-375
Simulation of Dark Count in Geiger Mode Avalanche Photodiodes....Pages 376-379
Device Simulation and Measurement of Hybrid SBTT....Pages 380-383
Two-Dimensional Diffusion Characterization of Boron in Silicon using Reverse Modeling....Pages 384-387
Simulation of Advanced n-MOSFET Emphasizing Quantum Mechanical Effects on 2-D Characteristics....Pages 388-391
Model of Pocket-Implant Mosfets for Circuit Simulation....Pages 392-395
Electrothermal Device Simulation of an ESD Protection Structure Based on Bipolar DC Characteristics....Pages 396-399
Characterization of Low-Frequency Noise of MOSFETs Using 2-D Device Simulator....Pages 400-403
Electron Beam Lithography Simulation for Subquartermicron and High Density Patterns....Pages 404-407
Green’s Function Approach for Three-Dimensional Diffusion Simulation of Industrial High Voltage Applications....Pages 408-411
Analysis of Ultra Short MOSFETs with High-k Gate Dielectrics....Pages 412-415
TCAD Analysis of Gain Cell Retention Time for SRAM Applications....Pages 416-419
Optimization for TCAD Purposes Using Bernstein Polynomials....Pages 420-423
Advanced Hybrid Cellular Based Approach for Three-Dimensional Etching and Deposition Simulation....Pages 424-427
A Methodology for Deep Sub-Quartermicron CMOS Technology Characterization....Pages 428-431
A Review of Modeling Issues for RF Heterostructure Device Simulation....Pages 432-435
Modeling and Simulation of Charge Generation Events Caused by Ion Irradiation in High Voltage Power Devices....Pages 436-439
Determination of the Radiation Efficiency, Contrast and Sensitivity in Electron and Ion Lithography....Pages 440-443
Back Matter....Pages 444-448




نظرات کاربران