ورود به حساب

نام کاربری گذرواژه

گذرواژه را فراموش کردید؟ کلیک کنید

حساب کاربری ندارید؟ ساخت حساب

ساخت حساب کاربری

نام نام کاربری ایمیل شماره موبایل گذرواژه

برای ارتباط با ما می توانید از طریق شماره موبایل زیر از طریق تماس و پیامک با ما در ارتباط باشید


09117307688
09117179751

در صورت عدم پاسخ گویی از طریق پیامک با پشتیبان در ارتباط باشید

دسترسی نامحدود

برای کاربرانی که ثبت نام کرده اند

ضمانت بازگشت وجه

درصورت عدم همخوانی توضیحات با کتاب

پشتیبانی

از ساعت 7 صبح تا 10 شب

دانلود کتاب Nanoscaled Semiconductor-on-Insulator Structures and Devices

دانلود کتاب سازه ها و دستگاه های نیمه هادی روی عایق نانومقیاس

Nanoscaled Semiconductor-on-Insulator Structures and Devices

مشخصات کتاب

Nanoscaled Semiconductor-on-Insulator Structures and Devices

ویرایش: 1 
نویسندگان: , , ,   
سری: NATO Science for Peace and Security Series B: Physics and Biophysics 
ISBN (شابک) : 9781402063787, 9781402063800 
ناشر: Springer Netherlands 
سال نشر: 2007 
تعداد صفحات: 376 
زبان: English 
فرمت فایل : PDF (درصورت درخواست کاربر به PDF، EPUB یا AZW3 تبدیل می شود) 
حجم فایل: 20 مگابایت 

قیمت کتاب (تومان) : 32,000



کلمات کلیدی مربوط به کتاب سازه ها و دستگاه های نیمه هادی روی عایق نانومقیاس: مواد نوری و الکترونیک، نانوتکنولوژی، مهندسی برق، الکترونیک و میکروالکترونیک، ابزار دقیق



ثبت امتیاز به این کتاب

میانگین امتیاز به این کتاب :
       تعداد امتیاز دهندگان : 15


در صورت تبدیل فایل کتاب Nanoscaled Semiconductor-on-Insulator Structures and Devices به فرمت های PDF، EPUB، AZW3، MOBI و یا DJVU می توانید به پشتیبان اطلاع دهید تا فایل مورد نظر را تبدیل نمایند.

توجه داشته باشید کتاب سازه ها و دستگاه های نیمه هادی روی عایق نانومقیاس نسخه زبان اصلی می باشد و کتاب ترجمه شده به فارسی نمی باشد. وبسایت اینترنشنال لایبرری ارائه دهنده کتاب های زبان اصلی می باشد و هیچ گونه کتاب ترجمه شده یا نوشته شده به فارسی را ارائه نمی دهد.


توضیحاتی در مورد کتاب سازه ها و دستگاه های نیمه هادی روی عایق نانومقیاس



این مجموعه مقالات آرشیوی از مشارکت سخنرانان کلیدی است که در کارگاه تحقیقاتی پیشرفته ناتو در مورد "ساختارها و دستگاه های نیمه هادی روی عایق نانومقیاس" که در مرکز گردشگری و تفریحی "Sudak" (کریمه، اوکراین) برگزار شد، شرکت کردند. ) از 15 تا 19 اکتبر 2006. صنعت نیمه هادی در طول سه دهه گذشته از طریق پیشرفت های فن آوری چشمگیر که منجر به تولید محصولات با عملکرد بالاتر و هزینه کمتر برای هر عملکرد شده است، رشد بسیار سریعی را حفظ کرده است. پس از سال ها توسعه، اکنون با اطمینان پیش بینی می شود که مواد نیمه هادی روی عایق وارد صنعت تولید شده و به طور فزاینده ای مورد استفاده قرار می گیرند. استفاده گسترده تر از نیمه هادی ها (مخصوصاً سیلیکون) در مواد عایق، نه تنها مزایای این مواد را نشان می دهد، بلکه هزینه زیرلایه ها را نیز کاهش می دهد که به نوبه خود، توسعه سایر دستگاه های جدید را تحریک می کند. و برنامه های کاربردی بنابراین، مواد نیمه هادی روی عایق امروزی نه تنها پایه ای برای میکروالکترونیک مدرن هستند، بلکه برای دستگاه ها و آی سی های آینده در مقیاس نانو نیز هستند. این روند به خودی خود ترویج مهارت ها و ایده های تولید شده توسط محققان در اتحاد جماهیر شوروی سابق و اروپای شرقی را تشویق می کند. در واقع، یکی از اهداف این کارگاه ترویج توسعه فناوری های SOI در سراسر جهان است.


توضیحاتی درمورد کتاب به خارجی

This proceedings volume constitutes an archive of the contributions of the key-speakers who attended the NATO Advanced Research Workshop on “Nanoscaled Semiconductor-On-Insulator Structures and devices” held in the Tourist and Recreation Centre “Sudak” (Crimea, Ukraine) from 15 to 19 October 2006. The semiconductor industry has sustained a very rapid growth during the last three decades through impressive technological developments which have resulted in products with higher performance and lower cost per function. After many years of development it is now confidently predicted that semiconductor-on-insulator materials will enter and increasingly be used by manufacturing industry. The wider use of semiconductor (es- cially silicon) on insulator materials will not only enable the benefits of these materials to be demonstrated but, also, will drive down the cost of substrates which, in turn, will stimulate the development of other novel devices and applications. Thus the semiconductor-on-insulator materials of today are not only the basis for modern microelectronics but also for future nanoscale devices and ICs. In itself this trend will encourage the promotion of the skills and ideas generated by researchers in the Former Soviet Union and Eastern Europe. Indeed, one of the goals of this Workshop is to promote the development of SOI technologies worldwide.



فهرست مطالب

Front Matter....Pages i-xiii
Front Matter....Pages 2-2
Status and trends in SOI nanodevices....Pages 3-18
Non-Planar Devices for Nanoscale CMOS....Pages 19-32
High-κ Dielectric Stacks for Nanoscaled SOI Devices....Pages 33-58
Nanoscaled Semiconductor Heterostructures for CMOS Transistors Formed by Ion Implantation and Hydrogen Transfer....Pages 59-72
Fluorine –Vacancy Engineering: A Viable Solution for Dopant Diffusion Suppression in SOI Substrates....Pages 73-87
Suspended Silicon-On-Insulator Nanowires for the Fabrication of Quadruple Gate MOSFETs....Pages 89-94
Front Matter....Pages 96-96
Integration of silicon Single-Electron Transistors Operating at Room Temperature....Pages 97-112
SiGe Nanodots in Electro-Optical SOI Devices....Pages 113-128
Nanowire Quantum Effects in Trigate SOI MOSFETs....Pages 129-142
Semiconductor Nanostructures and Devices....Pages 143-158
MuGFET CMOS Process with Midgap Gate Material....Pages 159-164
Doping Fluctuation Effects in Multiple-Gate SOI MOSFETs....Pages 165-170
SiGeC HBTs: impact of C on Device Performance....Pages 171-178
Front Matter....Pages 180-180
Noise Research of Nanoscaled SOI Devices....Pages 181-198
Electrical Characterization and Special Properties of FINFET Structures....Pages 199-220
Substrate Effect on the Output Conductance Frequency Response of SOI MOSFETs....Pages 221-238
Investigation of Compressive Strain Effects Induced by STI and ESL....Pages 239-250
Charge Trapping Phenomena in Single Electron NVM SOI Devices Fabricated by a Self-Aligned Quantum DOT Technology....Pages 251-256
Front Matter....Pages 258-258
Variability in Nanoscale UTB SOI Devices and its Impact on Circuits and Systems....Pages 259-302
Electron Transport in Silicon-on-Insulator Nanodevices....Pages 303-322
Front Matter....Pages 258-258
All Quantum Simulation of Ultrathin SOI MOSFETs....Pages 323-340
Resonant Tunneling Devices on SOI Basis....Pages 341-356
Mobility Modeling in SOI FETs for Different Substrate Orientations and Strain Conditions....Pages 357-362
Three-Dimensional (3-D) Analytical Modeling of the Threshold Voltage, DIBL and Subthreshold Swing of Cylindrical Gate all Around Mosfets....Pages 363-368
Back Matter....Pages 369-369




نظرات کاربران