ورود به حساب

نام کاربری گذرواژه

گذرواژه را فراموش کردید؟ کلیک کنید

حساب کاربری ندارید؟ ساخت حساب

ساخت حساب کاربری

نام نام کاربری ایمیل شماره موبایل گذرواژه

برای ارتباط با ما می توانید از طریق شماره موبایل زیر از طریق تماس و پیامک با ما در ارتباط باشید


09117307688
09117179751

در صورت عدم پاسخ گویی از طریق پیامک با پشتیبان در ارتباط باشید

دسترسی نامحدود

برای کاربرانی که ثبت نام کرده اند

ضمانت بازگشت وجه

درصورت عدم همخوانی توضیحات با کتاب

پشتیبانی

از ساعت 7 صبح تا 10 شب

دانلود کتاب Wafer Level 3-D ICs Process Technology

دانلود کتاب فناوری فرآیند آی سی های سه بعدی سطح ویفر

Wafer Level 3-D ICs Process Technology

مشخصات کتاب

Wafer Level 3-D ICs Process Technology

ویرایش: 1 
نویسندگان: , , , , ,   
سری: Integrated Circuits and Systems 
ISBN (شابک) : 9780387765327, 9780387765341 
ناشر: Springer US 
سال نشر: 2008 
تعداد صفحات: 364 
زبان: English 
فرمت فایل : PDF (درصورت درخواست کاربر به PDF، EPUB یا AZW3 تبدیل می شود) 
حجم فایل: 11 مگابایت 

قیمت کتاب (تومان) : 35,000



کلمات کلیدی مربوط به کتاب فناوری فرآیند آی سی های سه بعدی سطح ویفر: الکترونیک و میکروالکترونیک، ابزار دقیق، مواد نوری و الکترونیکی، سطوح و رابط ها، لایه های نازک، مهندسی، عمومی



ثبت امتیاز به این کتاب

میانگین امتیاز به این کتاب :
       تعداد امتیاز دهندگان : 18


در صورت تبدیل فایل کتاب Wafer Level 3-D ICs Process Technology به فرمت های PDF، EPUB، AZW3، MOBI و یا DJVU می توانید به پشتیبان اطلاع دهید تا فایل مورد نظر را تبدیل نمایند.

توجه داشته باشید کتاب فناوری فرآیند آی سی های سه بعدی سطح ویفر نسخه زبان اصلی می باشد و کتاب ترجمه شده به فارسی نمی باشد. وبسایت اینترنشنال لایبرری ارائه دهنده کتاب های زبان اصلی می باشد و هیچ گونه کتاب ترجمه شده یا نوشته شده به فارسی را ارائه نمی دهد.


توضیحاتی در مورد کتاب فناوری فرآیند آی سی های سه بعدی سطح ویفر



فناوری فرآیند آی سی های سه بعدی سطح ویفر بر فناوری فرآیند مبتنی بر ریخته گری متمرکز است که ساخت آی سی های سه بعدی را امکان پذیر می کند. هسته اصلی کتاب در مورد پلت فرم های فناوری جایگزین برای IC های سه بعدی سطح ویفر پیش بسته بندی، با تاکید بر روی هم چیدن ویفر به ویفر بحث می کند. با توجه به نیاز به بهبود عملکرد، تعدادی از شرکت‌ها، کنسرسیوم‌ها و دانشگاه‌ها در حال تحقیق بر روی روش‌هایی برای استفاده از اتصالات کوتاه، یکپارچه و عمودی برای جایگزینی اتصالات طولانی موجود در آی‌سی‌های دو بعدی هستند. انباشتن فناوری‌های ناهمگون برای ارائه ترکیب‌های مختلفی از عملکردهای فشرده، مانند منطق، حافظه، MEMS، نمایشگرها، RF، سیگنال‌های ترکیبی، حسگرها و تحویل انرژی به طور بالقوه با یکپارچگی ناهمگن سه بعدی امکان‌پذیر است، و این فناوری را تبدیل به \" جام مقدس\" یکپارچه سازی سیستم.

تکنولوژی فرآیند ICs 3-D سطح ویفر یک کتاب ویرایش شده بر اساس فصل‌های ارائه شده توسط متخصصان مختلف در زمینه‌های سه بعدی سطح ویفر است. ICها فناوری و برنامه های کاربردی را پردازش می کنند که با یکپارچه سازی سه بعدی فعال می شوند.


توضیحاتی درمورد کتاب به خارجی

Wafer Level 3-D ICs Process Technology focuses on foundry-based process technology that enables the fabrication of 3-D ICs. The core of the book discusses alternative technology platforms for pre-packaging wafer level 3-D ICs, with an emphasis on wafer-to-wafer stacking. Driven by the need for improved performance, a number of companies, consortia and universities are researching methods to use short, monolithically-fabricated, vertical interconnections to replace the long interconnects found in 2-D ICs. Stacking disparate technologies to provide various combinations of densely-packed functions, such as logic, memory, MEMS, displays, RF, mixed-signal, sensors, and power delivery is potentially possible with 3-D heterogeneous integration, making this technology the "Holy Grail" of system integration.

Wafer Level 3-D ICs Process Technology is an edited book based on chapters contributed by various experts in the fields of wafer-level 3-D ICs process technology and applications enabled by 3-D integration.



فهرست مطالب

Front Matter....Pages 1-14
Overview of Wafer-Level 3D ICs....Pages 1-11
Monolithic 3D Integrated Circuits....Pages 1-17
Stacked CMOS Technologies....Pages 1-17
Wafer-Bonding Technologies and Strategies for 3D ICs....Pages 1-35
Through-Silicon Via Fabrication, Backgrind, and Handle Wafer Technologies....Pages 1-32
Cu Wafer Bonding for 3D IC Applications....Pages 1-14
Cu/Sn Solid–Liquid Interdiffusion Bonding....Pages 1-39
An SOI-Based 3D Circuit Integration Technology....Pages 1-26
3D Fabrication Options for High-Performance CMOS Technology....Pages 1-21
3D Integration Based upon Dielectric Adhesive Bonding....Pages 1-38
Direct Hybrid Bonding....Pages 1-11
3D Memory....Pages 1-23
Circuit Architectures for 3D Integration....Pages 1-13
Thermal Challenges of 3D ICs....Pages 1-26
Status and Outlook....Pages 1-20
Back Matter....Pages 1-7




نظرات کاربران